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@zephyr_z9: RT @DrFrederickChen: SK hynix and Micron 1c/1-gamma minimum pitches are 21 nm, which would require double patterning if EUV were used.

@zephyr_z9 3 信息等级 3 1 噪音/剔除；2 较弱；3 普通事实；4 重要行业动态；5 极重大事件。该分数是信息显著性，不是投资建议。 发布：2026-05-11T18:32 抓取：2026-05-12 04:03
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半导体 行业
摘要

SK海力士和美光的1c/1-gamma节点最小间距为21纳米，若使用EUV光刻则需要双重曝光技术。

客观事实
  • SK海力士和美光1c/1-gamma最小间距为21纳米
  • 若使用EUV则需双重曝光
SK海力士 美光 EUV

原文

RT @DrFrederickChen: SK hynix and Micron 1c/1-gamma minimum pitches are 21 nm, which would require double patterning if EUV were used.

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