5月10日，国产28nm浸没式光刻机（SSA800）完成首批批量交付，标志着其从“能用”的研发验证阶段正式迈入“可量产”的商业化应用阶段。这一进展解决了国内成熟制程芯片制造最核心的设备短板，意味着构建完全自主可控的成熟工艺产线成为可能，将系统性地拉动整个半导体设备和材料产业链的国产化需求。关注：茂莱光学（光刻机核心光学组件）、路维光电（光刻掩膜版），北方华创/中微公司/芯源微（光刻机突破带动成套国产设备需求放量），鼎龙股份/佳先股份（上游光刻胶及原材料国产化提速）